普泰克 刻蝕機(jī)臺(tái)冷板溫控,在半導(dǎo)體刻蝕工藝中,等離子體反應(yīng)產(chǎn)生的熱負(fù)荷對(duì)反應(yīng)腔室及晶圓載臺(tái)(冷板)的溫度控制提出了較高要求。冷板表面溫度的穩(wěn)定性與均勻性,直接影響關(guān)鍵尺寸(CD)的控制精度與刻蝕速率的批次一致性。
普泰克 光刻工藝溫度控制chiller,依托成熟的熱力學(xué)循環(huán)與精密自動(dòng)化控制技術(shù),旨在為半導(dǎo)體光刻工藝提供穩(wěn)定、潔凈、低振動(dòng)的恒溫環(huán)境。
普泰克 光刻后蝕刻溫控,依托其在精密熱管理領(lǐng)域的技術(shù)積累,致力于為半導(dǎo)體前道核心制程提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。
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