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普泰克 光刻后蝕刻溫控,依托其在精密熱管理領域的技術積累,致力于為半導體前道核心制程提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。
普泰克 光刻機光學系統(tǒng)溫控,依托于精密的熱力學設計與優(yōu)良的自動化控制算法,旨在為光刻機核心光學組件提供高度穩(wěn)定、無振動的恒溫環(huán)境。
普泰克 光刻機恒溫控制設備,是一款專為半導體優(yōu)良光刻制程量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻工藝中,光學鏡頭、掩模臺、晶圓載臺及光源系統(tǒng)等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機液冷溫控,是一款專為半導體光刻核心制程量身定制的精密熱管理裝備。在優(yōu)良的光刻工藝中,光源、光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機溫度控制系統(tǒng),是一款專為半導體優(yōu)良光刻工藝量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻制程中,光源、光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機溫控系統(tǒng),以及極紫外光刻(EUV)等前沿技術的加速應用,芯片制造對工藝精度的要求達到高度。
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