產(chǎn)品分類
普泰克 PVD工藝晶圓冷板控溫,在物理氣相沉積(PVD)工藝中,晶圓載臺(冷板)的溫度控制精度與穩(wěn)定性直接影響薄膜的沉積速率、均勻性及附著力,進(jìn)而對芯片性能與良率產(chǎn)生重要影響。
普泰克 半導(dǎo)體工藝?yán)浒謇鋮s器,在半導(dǎo)體刻蝕、薄膜沉積、離子注入等核心制程中,工藝腔體內(nèi)的冷板承擔(dān)著精準(zhǔn)控溫的重要職責(zé)。冷板表面溫度的均勻性與響應(yīng)速度,直接影響晶圓表面的化學(xué)反應(yīng)速率與薄膜生長質(zhì)量。
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